书目信息 |
题名: |
光刻胶材料评测技术
|
|
作者: | 关口淳 著 ;方书农 译 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 化学工业出版社 2024.04 |
|
页数: | 254页 | |
开本: | 27cm | |
丛书名: | ||
单 册: | ||
中图分类: | TQ572.4 | |
科图分类: | ||
主题词: | 光致抗蚀剂--guang zhi kang shi ji | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-122-43800-3 |
000 | 01467nam0 2200289 450 | |
001 | 2437309649 | |
010 | @a978-7-122-43800-3@b精装@dCNY198.00 | |
100 | @a20240530d2024 em y0chiy0120 ea | |
101 | 1 | @achi@cjpn |
102 | @aCN@b110000 | |
105 | @aak a 000yy | |
106 | @ar | |
200 | 1 | @a光刻胶材料评测技术@Aguang ke jiao cai liao ping ce ji shu@e从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶@f(日) 关口淳著@g方书农译 |
210 | @a北京@c化学工业出版社@d2024.04 | |
215 | @a254页@c图 (部分彩图)@d27cm | |
306 | @a本书中文简体字版由サイエンス& テクノロジー株式会社授权化学工业出版社独家出版发行 | |
314 | @a关口淳, 1983年毕业于芝浦工业大学工学部应用化学系。进入日本化学科技公司, 在其分析研究所工作。1985年加入住友GCA公司。负责光刻胶涂覆和显影装置的工艺开发。此后, 负责光刻胶显影分析仪和光刻模拟软件的开发。 | |
320 | @a有书目 | |
330 | @a本书从光刻技术基础知识出发, 系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术, 以及g线和i线光刻胶、KrF和ArF光刻胶、ArF浸没式光刻胶、EUV光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术, 希望对国内的研究人员有很好的启发和指导意义。 | |
517 | 1 | @a从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶@Acong fen quan shu zhi guang ke jiao dao zui xin de EUV guang ke jiao |
586 | @a | |
606 | 0 | @a光致抗蚀剂@Aguang zhi kang shi ji |
690 | @aTQ572.4@v5 | |
701 | 0 | @a关口淳@Aguan kou chun@4著 |
702 | 0 | @a方书农@Afang shu nong@4译 |
801 | 0 | @aCN@c20240530 |
905 | @dTQ572.4@eG543@f1@sTQ572.4/G543@S@Z | |
光刻胶材料评测技术:从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶/(日) 关口淳著/方书农译.-北京:化学工业出版社,2024.04 |
254页:图 (部分彩图);27cm |
ISBN 978-7-122-43800-3(精装):CNY198.00 |
本书从光刻技术基础知识出发, 系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术, 以及g线和i线光刻胶、KrF和ArF光刻胶、ArF浸没式光刻胶、EUV光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术, 希望对国内的研究人员有很好的启发和指导意义。 |
● |
相关链接 |
正题名:光刻胶材料评测技术
索取号:TQ572.4/G543
 
预约/预借
序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
1 | 21613840 | 216138409 | 自科库501/501自科库 40排2列3层/ [索取号:TQ572.4/G543] | 在馆 |