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@a光刻胶材料评测技术@Aguang ke jiao cai liao ping ce ji shu@e从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶@f(日) 关口淳著@g方书农译
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@a北京@c化学工业出版社@d2024.04
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@a254页@c图 (部分彩图)@d27cm
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@a本书中文简体字版由サイエンス& テクノロジー株式会社授权化学工业出版社独家出版发行
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@a关口淳, 1983年毕业于芝浦工业大学工学部应用化学系。进入日本化学科技公司, 在其分析研究所工作。1985年加入住友GCA公司。负责光刻胶涂覆和显影装置的工艺开发。此后, 负责光刻胶显影分析仪和光刻模拟软件的开发。
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@a有书目
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@a本书从光刻技术基础知识出发, 系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术, 以及g线和i线光刻胶、KrF和ArF光刻胶、ArF浸没式光刻胶、EUV光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术, 希望对国内的研究人员有很好的启发和指导意义。
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@a从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶@Acong fen quan shu zhi guang ke jiao dao zui xin de EUV guang ke jiao
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@a光致抗蚀剂@Aguang zhi kang shi ji
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@dTQ572.4@eG543@f1@sTQ572.4/G543@S@Z
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| 光刻胶材料评测技术：从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶/(日) 关口淳著/方书农译.-北京：化学工业出版社，2024.04 |
| 254页：图 (部分彩图)；27cm |
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| ISBN 978-7-122-43800-3(精装)：CNY198.00 |
| 本书从光刻技术基础知识出发, 系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术, 以及g线和i线光刻胶、KrF和ArF光刻胶、ArF浸没式光刻胶、EUV光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术, 希望对国内的研究人员有很好的启发和指导意义。 |
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正题名：光刻胶材料评测技术
索取号：TQ572.4/G543
预约/预借
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登录号
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条形码
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馆藏地/架位号
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状态
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备注
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1
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21613840
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216138409
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自科库501/501自科库 40排2列3层/
[索取号:TQ572.4/G543]
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在馆
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