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@a先进等离子体技术@Axian jin deng li zi ti ji shu@f(意) 里卡尔多·达阿戈斯蒂诺 ... [等] 著@d= Advanced plasma technologyRiccardo d'Agostino@g刘佳琪, 任爱民, 吴润辉等译@zeng
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@a北京@c中国宇航出版社@d2021.12
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@aXIV, 382页@c图@d26cm
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@a题名页题其余责任者: 彼得罗·法维亚, 好伸·阿富, 伊代奥·伊凯加米, 乘吉·佐都, 法尔扎内·阿雷菲-洪塞里
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@a航天科技图书出版基金资助出版
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@a有书目
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@a本书介绍了低气压和大气压等离子体技术在多个技术领域中的研究进展, 由等离子体技术研究领域知名科学家编写。主要内容包括等离子体在高分子材料、半导体、太阳能电池、生物材料、平面显示、水处理和火箭推进等技术领域的应用, 也包含等离子体生成与控制方法、等离子体源及反应器设计、等离子体诊断、等离子体应用建模和仿真等基础内容。
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@aAdvanced plasma technology@zeng
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@a等离子体应用@Adeng li zi ti ying yong@x研究
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@aO539@v5
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@a达阿戈斯蒂诺@Ada a ge si di nuo@g(d'Agostino, Riccardo)@4著
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@a刘佳琪@Aliu jia qi@4译
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@a任爱民@Aren ai min@4译
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@a吴润辉@Awu run hui@4译
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@aCN@c20220910
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@a河南城建学院图书馆@dO539@eD001@f1
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| 先进等离子体技术/(意) 里卡尔多·达阿戈斯蒂诺 ... [等] 著= Advanced plasma technologyRiccardo d'Agostino/刘佳琪, 任爱民, 吴润辉等译.-北京:中国宇航出版社,2021.12 |
| XIV, 382页:图;26cm |
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| ISBN 978-7-5159-1895-2(精装):CNY128.00 |
| 本书介绍了低气压和大气压等离子体技术在多个技术领域中的研究进展, 由等离子体技术研究领域知名科学家编写。主要内容包括等离子体在高分子材料、半导体、太阳能电池、生物材料、平面显示、水处理和火箭推进等技术领域的应用, 也包含等离子体生成与控制方法、等离子体源及反应器设计、等离子体诊断、等离子体应用建模和仿真等基础内容。 |
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正题名:先进等离子体技术
索取号:O539/D001
 
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登录号
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条形码
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馆藏地/架位号
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状态
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备注
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1576618
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215766188
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自科库401/401自科库 59排4列3层/
[索取号:O539/D001]
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