书目信息 |
| 题名： |
铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究
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| 作者： | 孙芳 著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 冶金工业出版社 2019.01 |
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| 页数： | 156页 | |
| 开本： | 24cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | O614.121 ， TF8 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 铜--tong--金属薄膜--电沉积--制备 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-5024-7990-9 | |
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| 铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究/孙芳著.-北京：冶金工业出版社，2019.01 |
| 156页：图；24cm |
| ISBN 978-7-5024-7990-9：CNY43.00 |
| 本书采用电沉积方法制备出具有多种形貌的铜、氧化亚铜薄膜, 并通过简单的热处理方法将氧化亚铜薄膜转化为氧化铜薄膜, 探索自制的薄膜在光学及电催化氧化葡萄糖方面的性能应用。 |
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正题名：铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究
索取号：O614.121/S912
预约/预借
| 序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
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| 2 | 1438942 | 214389428 | 自科库401/401自科库 62排2列2层/ [索取号:O614.121/S912] | 在馆 |