书目信息 |
| 题名： |
薄膜技术与薄膜材料
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| 作者： | 石玉龙 ， 闫凤英 编著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 化学工业出版社 2015.03 |
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| 页数： | 242页 | |
| 开本： | 21cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TB43 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 薄膜技术 , 薄膜--工程材料 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-122-22618-1 | |
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| 330 | @a本书共4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜)，化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等)，硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等)，以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化，电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。 | |
| 333 | @a本书可作为薄膜材料研究专业科技人员的参考书，也可作为高等院校材料类及相关专业的本科生、研究生教学用 | |
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| 薄膜技术与薄膜材料/石玉龙，闫凤英编著.-北京：化学工业出版社，2015.03 |
| 242页：图；21cm |
| 使用对象：本书可作为薄膜材料研究专业科技人员的参考书，也可作为高等院校材料类及相关专业的本科生、研究生教学用 |
| ISBN 978-7-122-22618-1：CNY30.00 |
| 本书共4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜)，化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等)，硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等)，以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化，电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。 |
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正题名：薄膜技术与薄膜材料
索取号：TB43/S547
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| 1 | 1255016 | 212550167 | 自科库501/501自科库 15排2列2层/ [索取号:TB43/S547] | 在馆 | |
| 2 | 1255017 | 212550176 | 自科二线400A/400A自科库 27排3列1层/ [索取号:TB43/S547] | 在馆 | |
| 3 | 1255018 | 212550185 | 自科库501/501自科库 15排2列2层/ [索取号:TB43/S547] | 在馆 |