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书名：
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薄膜技术与薄膜材料
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作者：
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石玉龙
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闫凤英
编著
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出版信息：
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北京
化学工业出版社
2015.03
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开本页数：
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21cm
242页
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丛书名：
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单 册：
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中图分类：
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TB43
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科图分类：
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主题词：
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薄膜技术
,
薄膜--工程材料
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电子资源：
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ISBN：
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978-7-122-22618-1
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000
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@a本书共4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜)，化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等)，硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等)，以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化，电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。
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| 薄膜技术与薄膜材料/石玉龙，闫凤英编著.-北京：化学工业出版社，2015.03 |
| 242页：图；21cm |
| 使用对象：本书可作为薄膜材料研究专业科技人员的参考书，也可作为高等院校材料类及相关专业的本科生、研究生教学用 |
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| ISBN 978-7-122-22618-1：CNY30.00 |
| 本书共4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜)，化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等)，硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等)，以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化，电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。 |
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正题名：薄膜技术与薄膜材料
索取号：TB43/S547
预约/预借
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登录号
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条形码
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馆藏地/架位号
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状态
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备注
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1
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自科库501/501自科库 15排2列2层/
[索取号:TB43/S547]
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在馆
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自科二线400A/400A自科库 27排3列1层/
[索取号:TB43/S547]
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在馆
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自科库501/501自科库 15排2列2层/
[索取号:TB43/S547]
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在馆
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