书目信息 |
| 题名： |
分子印迹学
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| 作者： | 小宫山真 著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 科学出版社 2006.04 |
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| 页数： | 102页 | |
| 开本： | 24cm | |
| 丛书名： | 现代化学前沿译丛 | |
| 单 册： | ||
| 中图分类： | O631 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 高聚物--制备 , 高聚物 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 7-03-016817-8 | |
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| 分子印迹学：从基础到应用/(日)小宫山真等著.-北京：科学出版社，2006.04 |
| 102页；24cm.-(现代化学前沿译丛) |
| ISBN 7-03-016817-8：CNY 32.00 |
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| 相关链接 |
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正题名：分子印迹学
索取号：O631/X374
预约/预借
| 序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
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| 2 | 608957 | 206089579 | 自科库401/401自科库 93排2列2层/ [索取号:O631/X374] | 在馆 | |
| 3 | 608958 | 206089588 | 自科库401/401自科库 93排2列2层/ [索取号:O631/X374] | 在馆 |