书目信息 |
| 题名： |
气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场分析
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| 作者： | 余冬玲 ， 张小辉 ， 吴南星 著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 长春 吉林大学出版社 2021.09 |
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| 页数： | 224页 | |
| 开本： | 24cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TQ174.75 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 氮化硅陶瓷--dan hua gui tao ci--制备 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-5692-7098-3 | |
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| 330 | @a本书分析了气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场特性, 分析了轴-径组合结构、底-壁组合结构与Si3N4颗粒混合过程之间的内在关联性。 | |
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| 气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场分析/余冬玲, 张小辉, 吴南星著.-长春：吉林大学出版社，2021.09 |
| 224页：图；24cm |
| ISBN 978-7-5692-7098-3：CNY65.00 |
| 本书分析了气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场特性, 分析了轴-径组合结构、底-壁组合结构与Si3N4颗粒混合过程之间的内在关联性。 |
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| 相关链接 |
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正题名：气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过
索取号：TQ174.75/Y750
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| 2 | 1579928 | 215799287 | 自科库501/501自科库 139排9列6层/ [索取号:TQ174.75/Y750] | 在馆 |