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@a多弧离子镀沉积过程的计算机模拟@Aduo hu li zi du chen ji guo cheng de ji suan ji mo ni@f赵时璐著@Fzhao shi lu zhu
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@a本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章, 主要内容包括: 绪论; 真空镀膜技术的介绍; 多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础; 多弧离子镀物理过程的分析; 计算机模拟技术; 数学模型的建立; 程序的编制等。
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| 多弧离子镀沉积过程的计算机模拟/赵时璐著.-北京：冶金工业出版社，2013.04 |
| 232页：图；20cm |
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| ISBN 978-7-5024-6227-7：CNY26.00 |
| 本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章, 主要内容包括: 绪论; 真空镀膜技术的介绍; 多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础; 多弧离子镀物理过程的分析; 计算机模拟技术; 数学模型的建立; 程序的编制等。 |
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正题名：多弧离子镀沉积过程的计算机模拟
索取号：TG174.444-39/Z323
预约/预借
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登录号
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条形码
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馆藏地/架位号
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状态
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备注
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1
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1355923
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213559237
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自科库501/501自科库 25排3列3层/
[索取号:TG174.444-39/Z323]
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在馆
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2
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自科库501/501自科库 25排3列3层/
[索取号:TG174.444-39/Z323]
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在馆
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