书目信息 |
| 题名： |
多弧离子镀沉积过程的计算机模拟
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| 作者： | 赵时璐 著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 冶金工业出版社 2013.04 |
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| 页数： | 232页 | |
| 开本： | 20cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TG174.444-39 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 离子镀--li zi du--计算机模拟 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-5024-6227-7 | |
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| 多弧离子镀沉积过程的计算机模拟/赵时璐著.-北京：冶金工业出版社，2013.04 |
| 232页：图；20cm |
| ISBN 978-7-5024-6227-7：CNY26.00 |
| 本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章, 主要内容包括: 绪论; 真空镀膜技术的介绍; 多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础; 多弧离子镀物理过程的分析; 计算机模拟技术; 数学模型的建立; 程序的编制等。 |
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正题名：多弧离子镀沉积过程的计算机模拟
索取号：TG174.444-39/Z323
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