书目信息 |
| 题名： |
石墨烯基础及氢气刻蚀
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| 作者： | 王彬 ， 王宇薇 ， 王雪娇 ， 魏颖 著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 冶金工业出版社 2019.09 |
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| 页数： | 133页 | |
| 开本： | 24cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TB383 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 石墨--shi mo--纳米材料--研究 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-5024-8197-1 | |
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| 330 | @a本书首先介绍了石墨烯的晶体和能带结构, 石墨烯的制备方法以及在电子器件、热传导、场发射、传感器、复合物和能量存储等方面的应用 ; 然后本书详细介绍了利用CVD法在Mo膜和抛光Cu衬底上制备高质量的石墨烯薄膜 ; 最后详细研究了石墨烯的H2刻蚀现象。 | |
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| 石墨烯基础及氢气刻蚀/王彬 ... [等] 著.-北京：冶金工业出版社，2019.09 |
| 133页：图；24cm |
| ISBN 978-7-5024-8197-1：CNY45.00 |
| 本书首先介绍了石墨烯的晶体和能带结构, 石墨烯的制备方法以及在电子器件、热传导、场发射、传感器、复合物和能量存储等方面的应用 ; 然后本书详细介绍了利用CVD法在Mo膜和抛光Cu衬底上制备高质量的石墨烯薄膜 ; 最后详细研究了石墨烯的H2刻蚀现象。 |
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正题名：石墨烯基础及氢气刻蚀
索取号：TB383/W115
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