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@a石墨烯基础及氢气刻蚀@Ashi mo xi ji chu ji qing qi ke shi@f王彬 ... [等] 著
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@a北京@c冶金工业出版社@d2019.09
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@a133页@c图@d24cm
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@a题名页题其余责任者: 王宇薇, 王雪娇, 魏颖
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@a有书目
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@a本书首先介绍了石墨烯的晶体和能带结构, 石墨烯的制备方法以及在电子器件、热传导、场发射、传感器、复合物和能量存储等方面的应用 ; 然后本书详细介绍了利用CVD法在Mo膜和抛光Cu衬底上制备高质量的石墨烯薄膜 ; 最后详细研究了石墨烯的H2刻蚀现象。
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@a石墨@Ashi mo@x纳米材料@x研究
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@aTB383@v5
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@a河南城建学院图书馆@dTB383@f1@eW115
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| 石墨烯基础及氢气刻蚀/王彬 ... [等] 著.-北京:冶金工业出版社,2019.09 |
| 133页:图;24cm |
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| ISBN 978-7-5024-8197-1:CNY45.00 |
| 本书首先介绍了石墨烯的晶体和能带结构, 石墨烯的制备方法以及在电子器件、热传导、场发射、传感器、复合物和能量存储等方面的应用 ; 然后本书详细介绍了利用CVD法在Mo膜和抛光Cu衬底上制备高质量的石墨烯薄膜 ; 最后详细研究了石墨烯的H2刻蚀现象。 |
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正题名:石墨烯基础及氢气刻蚀
索取号:TB383/W115
 
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登录号
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条形码
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馆藏地/架位号
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状态
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备注
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1492954
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214929540
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自科库501/501自科库 14排2列2层/
[索取号:TB383/W115]
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在馆
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