书目信息 | 
| 题名: | 
             
                图解入门——半导体制造工艺基础精讲
             
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| 作者: | 佐藤淳一 著 ;王忆文 , 王姝娅 译 | |
| 分册: | ||
| 出版信息: | 北京 机械工业出版社 2022 | 
           
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| 页数: | 14, 194页 | |
| 开本: | 24cm | |
| 丛书名: | ||
| 单 册: | ||
| 中图分类: | TN305 | |
| 科图分类: | ||
| 主题词: | 半导体工艺--ban dao ti gong yi--图解 | |
| 电子资源: | ||
| ISBN: | 978-7-111-70234-4 | |
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| 330 | @a本书共分为12章,包括半导体制造工艺全貌、前段制程概述、清洗和干燥湿法工艺、离子注入和热处理工艺、光刻工艺、刻蚀工艺、成膜工艺、平坦化(CMP)工艺、CMOS工艺流程、后段制程工艺概述、后段制程的趋势、半导体工艺的最新动向。 | |
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| 图解入门——半导体制造工艺基础精讲/(日) 佐藤淳一著/王忆文, 王姝娅译.-北京:机械工业出版社,2022 | 
| 14, 194页;24cm | 
| 机工通信 | 
| ISBN 978-7-111-70234-4:CNY99.00 | 
| 本书共分为12章,包括半导体制造工艺全貌、前段制程概述、清洗和干燥湿法工艺、离子注入和热处理工艺、光刻工艺、刻蚀工艺、成膜工艺、平坦化(CMP)工艺、CMOS工艺流程、后段制程工艺概述、后段制程的趋势、半导体工艺的最新动向。 | 
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    正题名:图解入门——半导体制造工艺基础精讲    
    
    索取号:TN305/Z9941     
   
        
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| 1 | 1585270 | 215852708 | 自科库301/301自科库 26排1列2层/ [索取号:TN305/Z9941] | 在馆 |