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题名:
图解入门——半导体制造工艺基础精讲
    
 
作者: 佐藤淳一 著 ;王忆文 , 王姝娅 译
分册:  
出版信息: 北京   机械工业出版社  2022
页数: 14, 194页
开本: 24cm
丛书名:
单 册:
中图分类: TN305
科图分类:
主题词: 半导体工艺--ban dao ti gong yi--图解
电子资源:
ISBN: 978-7-111-70234-4
 
 
 
 
 
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    图解入门——半导体制造工艺基础精讲/(日) 佐藤淳一著/王忆文, 王姝娅译.-北京:机械工业出版社,2022
    14, 194页;24cm
    机工通信
    
    ISBN 978-7-111-70234-4:CNY99.00
    本书共分为12章,包括半导体制造工艺全貌、前段制程概述、清洗和干燥湿法工艺、离子注入和热处理工艺、光刻工艺、刻蚀工艺、成膜工艺、平坦化(CMP)工艺、CMOS工艺流程、后段制程工艺概述、后段制程的趋势、半导体工艺的最新动向。
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正题名:图解入门——半导体制造工艺基础精讲     索取号:TN305/Z9941         预约/预借

序号 登录号 条形码 馆藏地/架位号 状态 备注
1 1585270   215852708   自科库301/301自科库 34排2列5层/ [索取号:TN305/Z9941] 在馆    
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