书目信息 |
题名: |
材料X射线分析技术
|
|
作者: | 朱和国 编著 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 科学出版社 2023 |
|
页数: | 292页 | |
开本: | 26cm | |
丛书名: | 工业和信息化部“十四五”规划教材 | |
单 册: | ||
中图分类: | O721 | |
科图分类: | ||
主题词: | 晶体--X射线衍射分析--教材 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-03-075930-6 |
000 | 01141nam0 2200277 450 | |
001 | 01125210 | |
005 | 20231105182028.0 | |
010 | @a978-7-03-075930-6@dCNY79.00 | |
100 | @a20230922d2023 em y0chiy0120 ea | |
101 | 0 | @achi |
102 | @aCN@b110000 | |
105 | @aa z 000yy | |
106 | @ar | |
200 | 1 | @a材料X射线分析技术@9cai liao X she xian fen xi ji shu@f朱和国[等]编著 |
210 | @a北京@c科学出版社@d2023 | |
215 | @a292页@c图,照片@d26cm | |
225 | @a工业和信息化部“十四五”规划教材 | |
300 | @a工业和信息化部“十四五”规划教材 | |
304 | @a编著者还有:曾海波、兰司、尤泽升 | |
330 | @a本书介绍晶体学基础与X射线在材料结构、形貌和成分方面的分析技术。其中,结构分析技术包括X射线的物理基础、衍射原理、物相分析、织构分析、小角散射与掠入射衍射分析、位错分析、层错分析、非晶分析、单晶体衍射与取向分析、内应力分析、点阵常数的测量与热处理分析等;形貌分析技术即三维X射线显微成像分析;成分分析技术包括特征X射线能谱、X射线光电子能谱及X射线荧光光谱等。 | |
586 | @a | |
606 | 0 | @a晶体@xX射线衍射分析@j教材 |
690 | @aO721@v5 | |
701 | 0 | @a朱和国@9zhu he guo@4编著 |
801 | 0 | @aCN@c20231105 |
905 | @dO721@eZ841@f1@sO721/Z841@S@Z | |
材料X射线分析技术/朱和国[等]编著.-北京:科学出版社,2023 |
292页:图,照片;26cm.-(工业和信息化部“十四五”规划教材) |
工业和信息化部“十四五”规划教材 |
ISBN 978-7-03-075930-6:CNY79.00 |
本书介绍晶体学基础与X射线在材料结构、形貌和成分方面的分析技术。其中,结构分析技术包括X射线的物理基础、衍射原理、物相分析、织构分析、小角散射与掠入射衍射分析、位错分析、层错分析、非晶分析、单晶体衍射与取向分析、内应力分析、点阵常数的测量与热处理分析等;形貌分析技术即三维X射线显微成像分析;成分分析技术包括特征X射线能谱、X射线光电子能谱及X射线荧光光谱等。 |
● |
相关链接 |
正题名:材料X射线分析技术
索取号:O721/Z841
 
预约/预借
序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
1 | 21618563 | 216185633 | 自科库401/ [索取号:O721/Z841] | 在馆 |