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书名：
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真空镀膜原理与技术
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作者：
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方应翠
主编
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出版信息：
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北京
科学出版社
2014
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开本页数：
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24cm
213页
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丛书名：
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单 册：
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中图分类：
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TN305.8
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科图分类：
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主题词：
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真空技术--镀膜
,
真空技术
,
镀膜
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电子资源：
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ISBN：
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978-7-03-039898-7
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| 真空镀膜原理与技术/方应翠主编.-北京：科学出版社，2014 |
| 213页：图，照片；24cm |
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| ISBN 978-7-03-039898-7：CNY 38.00 |
| 本书阐述了真空镀膜的应用，以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程，探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法，包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。 |
| ● |
正题名：真空镀膜原理与技术
索取号：TN305.8/F260
预约/预借
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登录号
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条形码
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馆藏地/架位号
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状态
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备注
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1
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自科库301/301自科库 26排1列2层/
[索取号:TN305.8/F260]
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在馆
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2
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自科二线404/404自科库 18排3列1层/
[索取号:TN305.8/F260]
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在馆
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3
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自科库301/301自科库 26排1列2层/
[索取号:TN305.8/F260]
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在馆
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