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书目信息

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题名:
真空镀膜原理与技术
    
 
作者: 方应翠 主编
分册:  
出版信息: 北京   科学出版社  2014
页数: 213页
开本: 24cm
丛书名:
单 册:
中图分类: TN305.8
科图分类:
主题词: 真空技术--镀膜 , 真空技术 , 镀膜
电子资源:
ISBN: 978-7-03-039898-7
 
 
 
 
 
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    真空镀膜原理与技术/方应翠主编.-北京:科学出版社,2014
    213页:图,照片;24cm
    
    
    ISBN 978-7-03-039898-7:CNY 38.00
    本书阐述了真空镀膜的应用,以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程,探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法,包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。
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正题名:真空镀膜原理与技术     索取号:TN305.8/F260         预约/预借

序号 登录号 条形码 馆藏地/架位号 状态 备注
1 1134430   211344302   自科库301/301自科库 34排2列5层/ [索取号:TN305.8/F260] 在馆    
2 1134431   211344311   自科二线404/404自科库 18排3列1层/ [索取号:TN305.8/F260] 在馆    
3 1134432   211344320   自科库301/301自科库 34排2列5层/ [索取号:TN305.8/F260] 在馆    
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