书目信息 |
| 题名： |
真空镀膜原理与技术
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| 作者： | 方应翠 主编 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 科学出版社 2014 |
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| 页数： | 213页 | |
| 开本： | 24cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TN305.8 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 真空技术--镀膜 , 真空技术 , 镀膜 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-03-039898-7 | |
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| 真空镀膜原理与技术/方应翠主编.-北京：科学出版社，2014 |
| 213页：图，照片；24cm |
| ISBN 978-7-03-039898-7：CNY 38.00 |
| 本书阐述了真空镀膜的应用，以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程，探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法，包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。 |
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正题名：真空镀膜原理与技术
索取号：TN305.8/F260
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| 1 | 1134430 | 211344302 | 自科库301/301自科库 26排1列2层/ [索取号:TN305.8/F260] | 在馆 | |
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| 3 | 1134432 | 211344320 | 自科库301/301自科库 26排1列2层/ [索取号:TN305.8/F260] | 在馆 |