书目信息 |
题名: |
真空镀膜原理与技术
|
|
作者: | 方应翠 主编 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 科学出版社 2014 |
|
页数: | 213页 | |
开本: | 24cm | |
丛书名: | ||
单 册: | ||
中图分类: | TN305.8 | |
科图分类: | ||
主题词: | 真空技术--镀膜 , 真空技术 , 镀膜 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-03-039898-7 |
000 | 00857nam0 2200241 450 | |
001 | 142271 | |
005 | 20141220141415.54 | |
010 | @a978-7-03-039898-7@dCNY 38.00 | |
100 | @a20140515d2014 em y0chiy50 ea | |
101 | 0 | @achi |
102 | @aCN@b110000 | |
105 | @aa z 000yy | |
200 | 1 | @a真空镀膜原理与技术@9zhen kong du mo yuan li yu ji shu@b专著@f方应翠主编 |
210 | @a北京@c科学出版社@d2014 | |
215 | @a213页@c图,照片@d24cm | |
330 | @a本书阐述了真空镀膜的应用,以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程,探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法,包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。 | |
606 | 0 | @a真空技术@x镀膜 |
606 | 0 | @a真空技术 |
606 | 0 | @a镀膜 |
690 | @aTN305.8@v5 | |
701 | 0 | @a方应翠@9fang ying cui@4主编 |
801 | 0 | @aCN@bZL@c20141220 |
905 | @a241430@dTN305.8@eF260 | |
真空镀膜原理与技术/方应翠主编.-北京:科学出版社,2014 |
213页:图,照片;24cm |
ISBN 978-7-03-039898-7:CNY 38.00 |
本书阐述了真空镀膜的应用,以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程,探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法,包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。 |
● |
相关链接 |
正题名:真空镀膜原理与技术
索取号:TN305.8/F260
 
预约/预借
序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
1 | 1134430 | 211344302 | 自科库301/301自科库 19排2列4层/ [索取号:TN305.8/F260] | 在馆 | |
2 | 1134431 | 211344311 | 自科二线404/404自科库 18排3列1层/ [索取号:TN305.8/F260] | 在馆 | |
3 | 1134432 | 211344320 | 自科库301/301自科库 19排2列4层/ [索取号:TN305.8/F260] | 在馆 |