书目信息 |
| 题名： |
现代高纯气体
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| 作者： | 尹恩华 著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 科学出版社 2015.07 |
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| 页数： | 336页 | |
| 开本： | 24cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TQ116 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 气体--qi ti--化工生产 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-03-044967-2 | |
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| 330 | @a本书从高纯气体与集成电路等的关系说明气体纯度重要性。集成电路的制造包括成膜、刻蚀、掺杂和注入、平衡和清洗等, 无不需要各种高纯气体。本书介绍国内外最新文献, 包括: 吸附、精馏、离子液体、贮氢材料、钯扩散、熔体合金、膜分离、吸杂剂、多级离心和制备色谱等新技术。 | |
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| 现代高纯气体：制取、分析与安全使用/尹恩华著.-北京：科学出版社，2015.07 |
| 336页：图；24cm |
| ISBN 978-7-03-044967-2：CNY108.00 |
| 本书从高纯气体与集成电路等的关系说明气体纯度重要性。集成电路的制造包括成膜、刻蚀、掺杂和注入、平衡和清洗等, 无不需要各种高纯气体。本书介绍国内外最新文献, 包括: 吸附、精馏、离子液体、贮氢材料、钯扩散、熔体合金、膜分离、吸杂剂、多级离心和制备色谱等新技术。 |
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正题名：现代高纯气体
索取号：TQ116/Y593
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