|
000
|
00810nam0 2200253 450
|
|
001
|
006044369
|
|
010
|
|
@a978-7-122-12780-8@dCNY85.00
|
|
100
|
|
@a20120301d2012 em y0chiy50 ea
|
|
101
|
0
|
@achi
|
|
102
|
|
@aCN@b110000
|
|
105
|
|
@aa z 000yy
|
|
200
|
1
|
@a真空镀膜@Azhen kong du mo@f李云奇编著
|
|
210
|
|
@a北京@c化学工业出版社@d2012.02
|
|
215
|
|
@a310页@c图@d26cm
|
|
225
|
1
|
@a真空科学技术丛书@f达道安主编
|
|
330
|
|
@a全书共11章，内容包涵了真空镀膜中物理基础，各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求，各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控，真空镀膜工艺对环境的要求等。
|
|
410
|
0
|
@12001 @a真空科学技术丛书
|
|
606
|
0
|
@a真空电弧镀膜
|
|
606
|
0
|
@a薄膜技术
|
|
690
|
|
@aTN305.8@v5
|
|
690
|
|
@aTB43@v5
|
|
701
|
0
|
@a李云奇@Ali yun qi@4编著
|
|
801
|
0
|
@aCN@c20121226
|
|
905
|
|
@dTB43@eL325@f1
|
|
|
|
|
| |
| 真空镀膜/李云奇编著.-北京：化学工业出版社，2012.02 |
| 310页：图；26cm.-(真空科学技术丛书/达道安主编) |
| |
| |
| ISBN 978-7-122-12780-8：CNY85.00 |
| 全书共11章，内容包涵了真空镀膜中物理基础，各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求，各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控，真空镀膜工艺对环境的要求等。 |
| ● |
正题名：真空镀膜
索取号：TB43/L325
预约/预借
| 序号
|
登录号
|
条形码
|
馆藏地/架位号
|
状态
|
备注
|
|
1
|
1217125
|
212171255
|
自科库501/501自科库 15排2列2层/
[索取号:TB43/L325]
|
在馆
|
|
