书目信息 |
| 题名： |
真空镀膜
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| 作者： | 李云奇 编著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 化学工业出版社 2012.02 |
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| 页数： | 310页 | |
| 开本： | 26cm | |
| 丛书名： | 真空科学技术丛书 | |
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TN305.8 ， TB43 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 真空电弧镀膜 , 薄膜技术 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-122-12780-8 | |
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| 真空镀膜/李云奇编著.-北京：化学工业出版社，2012.02 |
| 310页：图；26cm.-(真空科学技术丛书/达道安主编) |
| ISBN 978-7-122-12780-8：CNY85.00 |
| 全书共11章，内容包涵了真空镀膜中物理基础，各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求，各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控，真空镀膜工艺对环境的要求等。 |
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正题名：真空镀膜
索取号：TB43/L325
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