书目信息 |
题名: |
等离子体浸泡式离子注入与沉积技术
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作者: | 汤宝寅 , 王浪平 编著 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 国防工业出版社 2012.01 |
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页数: | XVII, 238页 | |
开本: | 24cm | |
丛书名: | ||
单 册: | ||
中图分类: | TB3 | |
科图分类: | ||
主题词: | 工程材料--gong cheng cai liao--表面改性 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-118-07892-3 |
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等离子体浸泡式离子注入与沉积技术= Plasma immersion ion implantation and deposition technique/汤宝寅, 王浪平编著.-北京:国防工业出版社,2012.01 |
XVII, 238页:图;24cm |
ISBN 978-7-118-07892-3(精装):CNY68.00 |
本书介绍了用于材料表面改性的等离子体浸泡式离子注入与沉积技术。主要内容包括PIIID技术发展概况、基础理论PIIID设备关键部件设计、PIIID鞘层动力学计算机理论数值模拟与应用以及机械零件的PIIID复合、批量处理工艺与应用等。 |
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正题名:等离子体浸泡式离子注入与沉积技术
索取号:TB3/T168
 
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