书目信息 |
| 题名： |
微电子技术工程
|
|
| 作者： | 刘玉岭 ， 檀柏梅 ， 张楷亮 编著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 电子工业出版社 2004.10 |
|
| 页数： | xi, 646页 | |
| 开本： | 26cm | |
| 丛书名： | 微电子技术系列丛书 | |
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TN4 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 微电子技术--wei dian zi ji shu | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 7-120-00021-7 | |
| 000 | 01150nam 2200289 450 | |
| 001 | 0131773479 | |
| 005 | 20051207082102.53 | |
| 010 | @a7-120-00021-7@dCNY68.00 | |
| 100 | @a20050119d2004 km y0chiy0120 ea | |
| 101 | 0 | @achi |
| 102 | @aCN@b110000 | |
| 105 | @aa a 000yy | |
| 200 | 1 | @a微电子技术工程@Awei dian zi ji shu gong cheng@e材料、工艺与测试@f刘玉岭, 檀柏梅, 张楷亮编著@Fliu yu ling,tan bai mei,zhang kai liang bian zhu |
| 210 | @a北京@c电子工业出版社@d2004.10 | |
| 215 | @axi, 646页@c图@d26cm | |
| 225 | 2 | @a微电子技术系列丛书@Awei dian zi ji shu xi lie cong shu |
| 320 | @a有书目。 | |
| 330 | @a本书介绍了微电子技术衬底材料性能、加工工艺与测试技术；共分15章，内容涉及硅单晶性质与加工技术、外延、氧化、扩散、制版、图形转移、刻蚀、多层布线、封装、键合、微机械加工及检测技术。 | |
| 410 | 0 | @12001 @a微电子技术系列丛书 |
| 517 | 1 | @a材料工艺与测试@Acai liao gong yi yu ce shi |
| 606 | 0 | @a微电子技术@Awei dian zi ji shu |
| 690 | @aTN4@v4 | |
| 701 | 0 | @a刘玉岭@Aliu yu ling@4编著 |
| 701 | 0 | @a檀柏梅@Atan bai mei@4编著 |
| 701 | 0 | @a张楷亮@Azhang kai liang@4编著 |
| 801 | 0 | @aCN@bQSSK@c20051207 |
| 905 | @a10447@dTN4@eL713 | |
| 微电子技术工程：材料、工艺与测试/刘玉岭, 檀柏梅, 张楷亮编著.-北京：电子工业出版社，2004.10 |
| xi, 646页：图；26cm.-(微电子技术系列丛书) |
| ISBN 7-120-00021-7：CNY68.00 |
| 本书介绍了微电子技术衬底材料性能、加工工艺与测试技术；共分15章，内容涉及硅单晶性质与加工技术、外延、氧化、扩散、制版、图形转移、刻蚀、多层布线、封装、键合、微机械加工及检测技术。 |
| ● |
| 相关链接 |
|
|
|
正题名：微电子技术工程
索取号：TN4/L713
预约/预借
| 序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
| 1 | 546600 | 205466002 | 自科二线404/404自科库 18排6列6层/ [索取号:TN4/L713] | 在馆 | |
| 2 | 546601 | 205466011 | 自科库301/301自科库 19排4列1层/ [索取号:TN4/L713] | 在馆 | |
| 3 | 546602 | 205466020 | 自科库301/301自科库 19排4列1层/ [索取号:TN4/L713] | 在馆 | |
| 4 | 566601 | 205666019 | 自科二线404/301自科库 19排4列1层/ [索取号:TN4/L713] | 在馆 |