书目信息 |
| 题名： |
多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析
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| 作者： | 廖达海, ， 吴南星, ， 宁翔 著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 北京工业大学出版社 2021.10 |
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| 页数： | 126页 | |
| 开本： | 24cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TQ174.75 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 氮化硅陶瓷--dan hua gui tao ci--制备 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-5639-7683-6 | |
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| 多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析/廖达海, 宁翔, 吴南星著.-北京：北京工业大学出版社，2021.10 |
| 126页：图；24cm |
| ISBN 978-7-5639-7683-6：CNY56.00 |
| 本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程, 同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述。 |
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| 相关链接 |
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正题名：多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流
索取号：TQ174.75/L466
预约/预借
| 序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
| 1 | 1565466 | 215654664 | 自科库501/501自科库 139排9列6层/ [索取号:TQ174.75/L466] | 在馆 | |
| 2 | 1565467 | 215654673 | 自科库501/501自科库 139排9列6层/ [索取号:TQ174.75/L466] | 在馆 |