书目信息 |
题名: |
碳化硅技术基本原理
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作者: | 库珀 , 木本恒畅 著 ;夏经华 译 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 机械工业出版社 2018.05 |
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页数: | XIII, 500页 | |
开本: | 24cm | |
丛书名: | 新型电力电子器件丛书 | |
单 册: | ||
中图分类: | TQ174.75 | |
科图分类: | ||
主题词: | 碳化硅陶瓷--tan hua gui tao ci | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-111-58680-7 |
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碳化硅技术基本原理:生长、表征、器件和应用/(日) 木本恒畅, (美) 詹姆士A.库珀著= Fundamentals of silicon carbide technology:growth, characterization, devices, and applications/Tsunenobu Kimoto, James A. Cooper/夏经华 ... [等] 译.-北京:机械工业出版社,2018.05 |
XIII, 500页:图;24cm.-(新型电力电子器件丛书) |
ISBN 978-7-111-58680-7:CNY150.00 |
本书是一本有关碳化硅材料、器件工艺、器件和应用方面的书籍, 其主题包括碳化硅的物理特性、晶体和外延生长、电学和光学性能的表征、扩展缺陷和点缺陷, 器件工艺、功率整流器和开关器件的设计理念, 单/双极型器件的物理和特征、击穿现象、高频和高温器件, 以及碳化硅器件的系统应用, 涵盖了基本概念和新发展现状, 并针对每个主题做深入的阐释, 包括基本的物理特性、新的理解、尚未解决的问题和未来的挑战。 |
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正题名:碳化硅技术基本原理
索取号:TQ174.75/M940
 
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