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@a先进计算光刻@Axian jin ji suan guang ke@f李艳秋 ... [等] 著
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@a北京@c科学出版社@d2024.04
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@a233页@c图@d25cm
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@a题名页题: 李艳秋, 马旭, 孙义钰, 袁森著
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@a国家科学技术学术著作出版基金资助出版
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@a有书目
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@a本书主要介绍作者在20余年从事光刻机研发中, 建立的先进计算光刻技术, 包括矢量计算光刻、快速-全芯片计算光刻、高稳定-高保真计算光刻、光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻等, 能够实现快速-高精度-全曝光视场-低误差敏感度的高性能计算光刻。矢量计算光刻包括零误差、全光路严格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技术。快速-全芯片计算光刻包括压缩感知、贝叶斯压缩感知、全芯片压缩感知计算光刻技术。高稳定-高保真计算光刻包括低误差敏感度的SMO技术、全视场多目标SMO技术、多目标标量和矢量光瞳优化技术。光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻包括含偏振像差、工件台振动误差、杂散光误差的光刻设备-掩模-工艺多参数协同优化技术。解决传统计算光刻在零误差假设、局域坐标系、理想远心、单个视场点获得的掩模-光源, 无法最佳匹配实际光刻系统之所需, 导致增加工艺迭代时间的问题。
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@a集成电路工艺@Aji cheng dian lu gong yi@x电子束光刻
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@a孙义钰@Asun yi yu@4著
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@dTN405.98@eL315@f1@sTN405.98/L315@S@Z
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| 先进计算光刻/李艳秋 ... [等] 著.-北京：科学出版社，2024.04 |
| 233页：图；25cm |
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| ISBN 978-7-03-078124-6(精装)：CNY130.00 |
| 本书主要介绍作者在20余年从事光刻机研发中, 建立的先进计算光刻技术, 包括矢量计算光刻、快速-全芯片计算光刻、高稳定-高保真计算光刻、光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻等, 能够实现快速-高精度-全曝光视场-低误差敏感度的高性能计算光刻。矢量计算光刻包括零误差、全光路严格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技术。快速-全芯片计算光刻包括压缩感知、贝叶斯压缩感知、全芯片压缩感知计算光刻技术。高稳定-高保真计算光刻包括低误差敏感度的SMO技术、全视场多目标SMO技术、多目标标量和矢量光瞳优化技术。光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻包括含偏振像差、工件台振动误差、杂散光误差的光刻设备-掩模-工艺多参数协同优化技术。解决传统计算光刻在零误差假设、局域坐标系、理想远心、单个视场点获得的掩模-光源, 无法最佳匹配实际光刻系统之所需, 导致增加工艺迭代时间的问题。 |
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正题名：先进计算光刻
索取号：TN405.98/L315
预约/预借
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登录号
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条形码
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馆藏地/架位号
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状态
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备注
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1
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21613017
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216130176
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自科库301/301自科库 26排4列4层/
[索取号:TN405.98/L315]
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在馆
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