文献检索列表 |
| 序号 | 索取号 | 正题名 | 责任者 | 出版者 | 出版日期 |
| 1 | TN305.7/A447 | 半导体先进光刻理论与技术 | (德) 安德里亚斯·爱德曼著;李思坤译 | 化学工业出版社 | 2023.07 |
| 2 | TN305.7/G510 | 电子束曝光微纳加工技术 | 顾文琪著 | 北京工业大学出版社 | 2004.08 |
| 3 | TN305.7/W941 | 衍射极限附近的光刻工艺 | 伍强等编著 | 清华大学出版社 | 2020.02 |
| 4 | TN4/Z305 | 集成电路与等离子体装备 | 赵晋荣等编著 | 科学出版社 | 2024 |
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| 序号 | 索取号 | 正题名 | 责任者 | 出版者 | 出版日期 |
| 1 | TN305.7/A447 | 半导体先进光刻理论与技术 | (德) 安德里亚斯·爱德曼著;李思坤译 | 化学工业出版社 | 2023.07 |
| 2 | TN305.7/G510 | 电子束曝光微纳加工技术 | 顾文琪著 | 北京工业大学出版社 | 2004.08 |
| 3 | TN305.7/W941 | 衍射极限附近的光刻工艺 | 伍强等编著 | 清华大学出版社 | 2020.02 |
| 4 | TN4/Z305 | 集成电路与等离子体装备 | 赵晋荣等编著 | 科学出版社 | 2024 |