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序号 |
索取号 |
正题名 |
责任者 |
出版者 |
出版日期 |
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1
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TB43/L325
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真空镀膜
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李云奇编著
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化学工业出版社
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2012.02
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2
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TN303/L411
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半导体器件新工艺
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梁瑞林编著
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科学出版社
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2009.09
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3
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TN305.6/B:832
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制版技术
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《半导体器件制造技术丛书》编写组
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国防工业出版社
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1972.05
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4
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TN305.7/A447
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半导体先进光刻理论与技术
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(德) 安德里亚斯·爱德曼著;李思坤译
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化学工业出版社
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2023.07
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5
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TN305.7/G082
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半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲
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(日) 冈崎信次主编;朱光耀, 母春航译
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机械工业出版社
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2025.04
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6
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TN305.7/G510
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电子束曝光微纳加工技术
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顾文琪著
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北京工业大学出版社
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2004.08
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7
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TN305.7/W941
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衍射极限附近的光刻工艺
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伍强等编著
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清华大学出版社
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2020.02
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8
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TN305.7/Y412
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半导体干法刻蚀技术
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(日) 野尻一男著;王文武 … [等] 译
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机械工业出版社
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2024.01
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9
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TN305.8/F260
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真空镀膜原理与技术
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方应翠主编
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科学出版社
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2014
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10
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TN305.8/L832
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真空镀膜技术与应用
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陆峰编著
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化学工业出版社
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2022.03
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