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01685nam 2200313 450
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20250819092051.29
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@a978-7-122-46537-5@dCNY89.00
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@achi
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@aCN@b110000
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@a集成电路制造工艺与模拟@Aji cheng dian lu zhi zao gong yi yu mo ni@d= Integrated circuit manufacturing process and simulation@f孙晓东, 律博, 宋文斌编著@zeng
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@a北京@c化学工业出版社@d2025.01
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@a184页@c图 (部分彩图)@d26cm
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@a“集成电路设计与集成系统”丛书@A“ ji cheng dian lu she ji yu ji cheng xi tong ” cong shu
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@a孙晓东, 讲师, 大连东软信息学院智能与电子工程学院微电子工程系副主任, 参编《微电子器件设计实践》一书。律博, 讲师, 大连东软信息学院智能与电子工程学院微电子科学与工程系, 主讲核心专业课, 参与课程改革等。
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@a有书目
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@a本书内容涵盖集成电路制造工艺及模拟仿真知识。详细介绍了集成电路的发展史及产业发展趋势、集成电路制造工艺流程及模拟仿真基础、集成电路制造的材料及相关环境、晶圆的制备与加工 ; 具体讲解了氧化、淀积、金属化、光刻、刻蚀、离子注入、平坦化等关键工艺步骤的理论, 对氧化、光刻、离子注入等步骤进行工艺模拟仿真, 对关键的光刻工艺进行虚拟操作模拟 ; 以NMOS器件为例, 介绍了基本CMOS工艺流程及其模拟过程。
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@12001 @a“集成电路设计与集成系统”丛书
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@aIntegrated circuit manufacturing process and simulation@zeng
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@a集成电路工艺@Aji cheng dian lu gong yi
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@aTN405@v5
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@a孙晓东@Asun xiao dong@4编著
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@a律博@Alv bo@4编著
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@a宋文斌@Asong wen bin@4编著
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@aCN@c20250909
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@a河南城建学院图书馆@dTN405@eS960@f1
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| 集成电路制造工艺与模拟= Integrated circuit manufacturing process and simulation/孙晓东, 律博, 宋文斌编著.-北京：化学工业出版社，2025.01 |
| 184页：图 (部分彩图)；26cm.-(“集成电路设计与集成系统”丛书) |
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| ISBN 978-7-122-46537-5：CNY89.00 |
| 本书内容涵盖集成电路制造工艺及模拟仿真知识。详细介绍了集成电路的发展史及产业发展趋势、集成电路制造工艺流程及模拟仿真基础、集成电路制造的材料及相关环境、晶圆的制备与加工 ; 具体讲解了氧化、淀积、金属化、光刻、刻蚀、离子注入、平坦化等关键工艺步骤的理论, 对氧化、光刻、离子注入等步骤进行工艺模拟仿真, 对关键的光刻工艺进行虚拟操作模拟 ; 以NMOS器件为例, 介绍了基本CMOS工艺流程及其模拟过程。 |
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正题名：集成电路制造工艺与模拟
索取号：TN405/S960
预约/预借
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登录号
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条形码
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馆藏地/架位号
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状态
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备注
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1
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1627408
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216274083
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自科库301/301自科库 26排4列3层/
[索取号:TN405/S960]
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在馆
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