书目信息 |
| 题名： |
集成电路制造工艺
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| 作者： | 林明祥 著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 机械工业出版社 2009.07 |
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| 页数： | 255页 | |
| 开本： | 26cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TN405 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 集成电路 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-111-17300-7 | |
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| 集成电路制造工艺/林明祥著.-北京：机械工业出版社，2009.07 |
| 255页；26cm |
| ISBN 978-7-111-17300-7：CNY24.00 |
| 本书共15章，介绍了硅单晶制备；外延、氧化、溅射、化学气相淀积等薄膜制备技术；扩散、离子注入等掺杂技术；制版、光刻、刻蚀、CAD等图形加工技术等。 |
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正题名：集成电路制造工艺
索取号：TN405/L510
预约/预借
| 序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
| 1 | 1070872 | 210708723 | 自科库301/301自科库 20排1列2层/ [索取号:TN405/L510] | 在馆 | |
| 2 | 1070873 | 210708732 | 自科库301/301自科库 20排1列2层/ [索取号:TN405/L510] | 在馆 | |
| 3 | 1070874 | 210708741 | 自科库301/301自科库 20排1列3层/ [索取号:TN405/L510] | 在馆 |