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书目信息

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题名:
集成电路制造工艺
    
 
作者: 林明祥 著
分册:  
出版信息: 北京   机械工业出版社  2009.07
页数: 255页
开本: 26cm
丛书名:
单 册:
中图分类: TN405
科图分类:
主题词: 集成电路
电子资源:
ISBN: 978-7-111-17300-7
 
 
 
 
 
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    集成电路制造工艺/林明祥著.-北京:机械工业出版社,2009.07
    255页;26cm
    
    
    ISBN 978-7-111-17300-7:CNY24.00
    本书共15章,介绍了硅单晶制备;外延、氧化、溅射、化学气相淀积等薄膜制备技术;扩散、离子注入等掺杂技术;制版、光刻、刻蚀、CAD等图形加工技术等。
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正题名:集成电路制造工艺     索取号:TN405/L510         预约/预借

序号 登录号 条形码 馆藏地/架位号 状态 备注
1 1070872   210708723   自科库301/301自科库 35排2列1层/ [索取号:TN405/L510] 在馆    
2 1070873   210708732   自科库301/301自科库 35排2列1层/ [索取号:TN405/L510] 在馆    
3 1070874   210708741   自科库301/301自科库 20排1列3层/ [索取号:TN405/L510] 在馆    
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