书目信息 |
| 题名： |
集成电路工艺PDK技术
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| 作者： | 刘军 ， 陈展飞 ， 朱能勇 编著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 电子工业出版社 2024.10 |
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| 页数： | 209页 | |
| 开本： | 26cm | |
| 丛书名： | 集成电路系列丛书 | |
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TN405 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 集成电路工艺--ji cheng dian lu gong yi--教材 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-121-48936-5 | |
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| 集成电路工艺PDK技术：基于华大九天设计平台的PDK开发教程/刘军, 陈展飞, 朱能勇编著.-北京：电子工业出版社，2024.10 |
| 209页：图；26cm.-(集成电路系列丛书.电子设计自动化).-(国产EDA系列教材) |
| ISBN 978-7-121-48936-5：CNY55.00 |
| 本书立足于EDA工具平台 —— 华大九天EDA工具集, 详细讲述了EPDK的开发流程。全书共有六个章节, 分别介绍了PDK的背景、PDK的架构、EPDK开发流程、开发实例, 以及验证方法等内容。 |
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正题名：集成电路工艺PDK技术
索取号：TN405/L635
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