书目信息 |
| 题名： |
半导体先进光刻理论与技术
|
|
| 作者： | 爱德曼 著 ；李思坤 译 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 化学工业出版社 2023.07 |
|
| 页数： | 304页 | |
| 开本： | 25cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TN305.7 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 半导体光电器件--ban dao ti guang dian qi jian--光刻设备--研究 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-122-43276-6 | |
| 000 | 01445nam0 2200277 450 | |
| 001 | 2433506514 | |
| 010 | @a978-7-122-43276-6@b精装@dCNY198.00 | |
| 100 | @a20230906d2023 em y0chiy0120 ea | |
| 101 | 1 | @achi@cger |
| 102 | @aCN@b110000 | |
| 105 | @aa a 000yy | |
| 106 | @ar | |
| 200 | 1 | @a半导体先进光刻理论与技术@Aban dao ti xian jin guang ke li lun yu ji shu@f(德) 安德里亚斯·爱德曼著@d= Optical and EUV lithography@ea modeling perspective@g李思坤译@zeng |
| 210 | @a北京@c化学工业出版社@d2023.07 | |
| 215 | @a304页@c图 (部分彩图)@d25cm | |
| 314 | @a安德里亚斯·爱德曼, 国际光学工程学会 (SPIE) 会士, 德国弗劳恩霍夫协会计算光刻和光学组学术带头人, 多次担任SPIE光学光刻与光学设计国际会议主席, 弗劳恩霍夫协会国际光刻仿真技术研讨会组织者。李思坤, 中国科学院上海光学精密机械研究所研究员, 博士生导师。长期从事半导体光学光刻与极紫外光刻技术研究。 | |
| 320 | @a有书目 | |
| 330 | @a本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等, 包括光刻技术的前沿进展, 还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。 | |
| 510 | 1 | @aOptical and EUV lithography@zeng |
| 586 | @a | |
| 606 | 0 | @a半导体光电器件@Aban dao ti guang dian qi jian@x光刻设备@x研究 |
| 690 | @aTN305.7@v5 | |
| 701 | 1 | @a爱德曼@Aai de man@g(Erdmann, Andreas)@4著 |
| 702 | 0 | @a李思坤@Ali si kun@4译 |
| 801 | 0 | @aCN@c20230906 |
| 905 | @dTN305.7@eA447@f1@sTN305.7/A447 | |
| 半导体先进光刻理论与技术/(德) 安德里亚斯·爱德曼著= Optical and EUV lithography：a modeling perspective/李思坤译.-北京：化学工业出版社，2023.07 |
| 304页：图 (部分彩图)；25cm |
| ISBN 978-7-122-43276-6(精装)：CNY198.00 |
| 本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等, 包括光刻技术的前沿进展, 还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。 |
| ● |
| 相关链接 |
|
|
|
正题名：半导体先进光刻理论与技术
索取号：TN305.7/A447
预约/预借
| 序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
| 1 | 21610570 | 216105701 | 自科库301/301自科库 101排8列5层/ [索取号:TN305.7/A447] | 在馆 |