书目信息 |
| 题名： |
纳米集成电路制造工艺
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| 作者： | 张汝京 编著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 清华大学出版社 2017.01 |
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| 页数： | XIV, 471页 | |
| 开本： | 26cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TN405 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 纳米材料--na mi cai liao--集成电路工艺 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-302-45233-1 | |
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| 330 | @a本书共分19章, 涵盖先进集成电路工艺的发展史, 集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化, 器件参数与工艺相关性, DFM (Design for Manufacturing) , 集成电路检测与分析、集成电路的可靠性, 生产控制, 良率提升, 芯片测试与芯片封装等项目和课题。 | |
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| 纳米集成电路制造工艺= Nanoscale integrated circuits——the manufacturing process/张汝京等编著.-第2版.-北京：清华大学出版社，2017.01 |
| XIV, 471页：图；26cm |
| ISBN 978-7-302-45233-1：CNY89.00 |
| 本书共分19章, 涵盖先进集成电路工艺的发展史, 集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化, 器件参数与工艺相关性, DFM (Design for Manufacturing) , 集成电路检测与分析、集成电路的可靠性, 生产控制, 良率提升, 芯片测试与芯片封装等项目和课题。 |
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正题名：纳米集成电路制造工艺
索取号：TN405/Z152=2
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| 1 | 1317651 | 213176515 | 自科库301/301自科库 35排2列2层/ [索取号:TN405/Z152=2] | 在馆 | |
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