书目信息 |
题名: |
纳米集成电路制造工艺
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作者: | 张汝京 编著 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 清华大学出版社 2017.01 |
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页数: | XIV, 471页 | |
开本: | 26cm | |
丛书名: | ||
单 册: | ||
中图分类: | TN405 | |
科图分类: | ||
主题词: | 纳米材料--na mi cai liao--集成电路工艺 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-302-45233-1 |
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330 | @a本书共分19章, 涵盖先进集成电路工艺的发展史, 集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化, 器件参数与工艺相关性, DFM (Design for Manufacturing) , 集成电路检测与分析、集成电路的可靠性, 生产控制, 良率提升, 芯片测试与芯片封装等项目和课题。 | |
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纳米集成电路制造工艺= Nanoscale integrated circuits——the manufacturing process/张汝京等编著.-第2版.-北京:清华大学出版社,2017.01 |
XIV, 471页:图;26cm |
ISBN 978-7-302-45233-1:CNY89.00 |
本书共分19章, 涵盖先进集成电路工艺的发展史, 集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化, 器件参数与工艺相关性, DFM (Design for Manufacturing) , 集成电路检测与分析、集成电路的可靠性, 生产控制, 良率提升, 芯片测试与芯片封装等项目和课题。 |
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正题名:纳米集成电路制造工艺
索取号:TN405/Z152=2
 
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