书目信息 |
| 题名： |
半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲
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| 作者： | 冈崎信次 主编 ；朱光耀 ， 母春航 译 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 机械工业出版社 2025.04 |
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| 页数： | 162页 | |
| 开本： | 24cm | |
| 丛书名： | 集成电路关键技术与创新应用丛书 | |
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TN305.7 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 半导体光电器件--ban dao ti guang dian qi jian--光刻设备--研究 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-111-77773-1 | |
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| 半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲/(日) 冈崎信次主编/朱光耀, 母春航译.-北京：机械工业出版社，2025.04 |
| 162页：图；24cm.-(集成电路关键技术与创新应用丛书) |
| ISBN 978-7-111-77773-1：CNY99.00 |
| 本书共14章, 内容包括光掩膜、下一代光刻技术发展趋势、EUV掩膜技术、纳米压印技术、电子束刻蚀技术与设备开发、定向自组装 (DSA) 技术、光刻胶材料的发展趋势、含金属光刻胶材料技术、多重图形化中的沉积和刻蚀技术、光散射测量技术、扫描探针显微镜技术等。 |
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正题名：半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲
索取号：TN305.7/G082
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| 1 | 1625951 | 216259518 | 自科库301/301自科库 26排1列2层/ [索取号:TN305.7/G082] | 在馆 |