书目信息 |
题名: |
电子束曝光微纳加工技术
|
|
作者: | 顾文琪 著 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 北京工业大学出版社 2004.08 |
|
页数: | 310页 | |
开本: | 24cm | |
丛书名: | ||
单 册: | ||
中图分类: | TN305.7 | |
科图分类: | ||
主题词: | 半导体技术 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 7-5639-1300-9 |
000 | 00891 nam 000265 | |
001 | 0100028414 | |
010 | @a7-5639-1300-9@dCNY50.00 | |
100 | @a20100521d1997 em y0chiy0121 ea | |
101 | @achi | |
102 | @aCN@b110000 | |
105 | @ay z 000yy | |
106 | @ar | |
200 | 10 | @a电子束曝光微纳加工技术@9dian zi shu pu guang wei na jia gong ji shu@f顾文琪著@Fgu wen qi zhu |
210 | @a北京@c北京工业大学出版社@d2004.08 | |
215 | @a310页@d24cm | |
300 | @a电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著 | |
330 | @a本书系统的介绍了电子束曝光技术的发展历史和原理、系统的组成和分类、应用和发展前景,同时详细介绍了多种先进的电子束曝光机的性能和技术指标。 | |
410 | 0 | @12001 |
540 | @a电子束曝光微纳加工技术 | |
606 | @a半导体技术 | |
690 | @aTN305.7@v4 | |
701 | 0 | @a顾文琪@9gu wen qi@4著 |
801 | @aCN@bDYGS@c20100504 | |
901 | @a210601 | |
905 | @b914198-200@dTN305.7@eG510@f3 | |
电子束曝光微纳加工技术/顾文琪著.-北京:北京工业大学出版社,2004.08 |
310页;24cm |
电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著 |
ISBN 7-5639-1300-9:CNY50.00 |
本书系统的介绍了电子束曝光技术的发展历史和原理、系统的组成和分类、应用和发展前景,同时详细介绍了多种先进的电子束曝光机的性能和技术指标。 |
● |
相关链接 |
![]() |
![]() |
![]() |
正题名:电子束曝光微纳加工技术
索取号:TN305.7/G510
 
预约/预借
序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
1 | 914198 | 209141980 | 自科库301/301自科库 34排2列5层/ [索取号:TN305.7/G510] | 在馆 | |
2 | 914199 | 209141999 | 自科二线404/404自科库 18排3列1层/ [索取号:TN305.7/G510] | 在馆 | |
3 | 914200 | 209142006 | 自科库301/301自科库 34排2列5层/ [索取号:TN305.7/G510] | 在馆 |